Платформа НАНОФАБ 100: Кластер ПП

 
Кластер плазменных технологий предназначен для осуществления операций очистки, травления и осаждения. В частности, он обеспечивает:
- субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO₂, Si₃N₄);
- травление металлов, в том числе и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений;
- травление монокристаллического кремния в различных типах процессов;
- травление арсенида и нитрида галлия;
- травление полиимида, снятие резистов;
- осаждение диэлектриков с хорошим качеством и равномерностью (SiO₂, Si₃N₄);
- обработку в плазме водорода и в атомарном водороде

Габаритные размеры кластера - 320х320 см.

В состав кластера входят: 

• Модуль ПХТ - модуль плазмохимического травления 
• Модуль ПХГФО - модуль плазмохимического осаждения из газовой фазы 
• Транспортный модуль - СВВ радиальный транспортный модуль
• Модуль загрузки - модуль загрузки и хранения образцов
• Модуль переворота - СВВ модуль переворота и передачи пластин