Платформа НАНОФАБ 100: Модули ПП

Группа модулей плазменных технологий включает в настоящее время модуль плазмохимического травления - модуль ПХТ, модуль плазмохимической очистки - модуль ПХО и модуль плазмо-химического осаждения из газовой фазы - модуль ПХГФО.

Плазменные модули являются полностью автоматизированными шлюзовыми установками поштучной обработки полупроводниковых пластин. Они снабжены генератором плазмы высокой плотности со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13.56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.

Конструкция генератора плазмы и стола травления позволяют получать на обрабатываемых подложках потоки ионов 5-10 мА/см² и более с регулируемой генератором смещения подложки энергией от 20 до 300 эВ и более. Для улучшения теплоотвода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод». Это подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.

Плазменные модули реализуют следующие технологии:

• Субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO₂, Si₃N₄) со скоростями порядка 1 мкм/мин
• Травление металлов, в том чмсле и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений, травление производится через резистивные и металлические маски (скорость травления по золоту более 0.2 мкм/мин)
• Травление монокристаллического кремния в различных типах процессов. Конструкция установок допускает применение «криогенного стола», скорость травления кремния ограничена только откачными средствами и может достигать 5 мкм/мин
• Травление арсенида и нитрида галлия в производстве пп лазеров и светодиодов, в том числе областей под омические контакты
• Травление полиимида с высокими скоростями, снятие резиста

• Обработка в плазме водорода и в атомарном водороде.  

• Осаждение в плазме на одиночных пластинах диаметром до 100 мм или на нескольких пластинах эквивалентной суммарной геометрии массивов углеродных нанотрубок (УНТ).